此次,新帕泰克將繼續(xù)參加6月2至4日在上海新博覽中心舉辦的世界制藥原料中國展(CPhI & ICSE China 2010),現場為廣大客戶展示從實驗室至工業(yè)在線粒度控制技術,為解決美國FDA對醫(yī)藥生產提出的PAT(Process Analytical Technology)過程分析技術要求,提供的過程控制手段。
公司展位為E1C05,屆時將攜全自動干濕二合一激光粒度儀HELOS/OASIS(測試范圍0.1-3500μm)、動態(tài)粒度粒形分析儀QICPIC(測試范圍1-20000μm)、納米激光粒度儀NANOPHOX(測試范圍1-10000nm)、超聲衰減粒度儀OPUS(0.01-3000μm),并有德國總部工程師與中國工程師在現場為您做的介紹與解答。
誠摯歡迎各界人士的蒞臨!
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